专栏算法工具链J5_OE_1.1.29 模型增强问题

J5_OE_1.1.29 模型增强问题

TonyStack3212023-09-12
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1.芯片型号：J5
2.天工开物开发包OpenExplorer版本：J5_OE_1.1.29等
3.问题定位：模型增强
4.问题具体描述：我使用的是bev ipm算法，想做bev平面增强以及摄像头外参rpy扰动，请问这两种扰动都需要同时改变标签值吗？
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评论1
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  • 颜值即正义
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    你好，bev平面增强后，需要您这边改变分割和检测bbox的label,而增加摄像头外参rpy扰动后，需要根据新的外参计算模型的ego2img矩阵。另外，我们的bev参考算法中也已经提供了一些数据增强的方法（"BevImgResize","BevImgCrop","BevImgPad","BevImgRotate","BevImgFlip","BevImgTransformWrapper","BevFlip","BevRotate"），相关细节可以参考代码。

    代码路径：bev_release_package/bev/data/transforms/bev.py

    2023-09-12
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    • TonyStack321回复颜值即正义:
      ”bev平面增强后，需要您这边改变分割和检测bbox的label“这句话的理解是否是：需要改变的是2d投影上的标签。那么3D空间自车左边系下的其他目标3D标签是否需要改变？例如x,yz,w,h,l,yaw,pitch,roll标签值。我自己的理解上，在bev的平面扰动增强后，需要改变gridsample的取样点的位置，这么要在ipm.py处理吗？有没有参考的例子？
      2023-09-12
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    • 颜值即正义回复TonyStack321:
      是的，您这边可以参考bev_release_package/bev/data/transforms/bev.py中的"BevFlip","BevRotate" 类代码，bev平面增强以后，重新计算了采样坐标、并且根据新计算的采样坐标做了gridsample。"BevFlip","BevRotate" 是我们编写好并注册在底层的BEV平面增强类，您这边可以直接在config文件的model字段中调用，调用方式如下所示：
      2023-09-15
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